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J-GLOBAL ID：200903047964874320
レジスト膜の加熱方法およびパターン形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岩佐 義幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992340072
Publication number (International publication number)：1994188184
Application date： Dec. 21, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 紫外線感光レジスト膜において、紫外光による露光,現像後にアンダーカットパターンを形成する。【構成】 レジスト32内部に温度分布を生ぜしめるために、加熱されたホットプレート33にレジスト32を接触することのない位置まで接近させ、1秒以下の時間保持した後、再びホットプレートからの影響を受けない位置までレジスト32を離す。加熱時にこの温度分布を発生させることにより、レジスト32は、表面から基板31方向に向かって徐々に現像速度が速くなる性質を持つようになる。この結果、露光現像後、パターンとしてアンダーカット形状を形成することが可能となる。
Claim (excerpt)：
基板上に塗布形成されたレジスト膜を加熱する際に、レジスト膜上面に熱源を前記レジスト膜に接触しないように設置し、前記レジスト膜内部にレジスト膜表面から前記レジスト膜と前記基板の界面方向に向かって温度が低下する温度分布を形成することを特徴とするレジスト膜の加熱方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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