フォト酸レイビルポリマー及びそれを含むフォトレジスト

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：千田稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002376468
Publication number (International publication number)：2003233191
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Aug. 22, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】高解像レリーフイメージを提供できる素材とそれを用いたレジスト組成物を提供する。【解決手段】アリールアルキル基を含むフォト酸レイビル基を含有する新規なポリマーを提供する。特に好ましいのは、エステル酸素と直接結合する三級ベンジル炭素を有するポリマーである。このポリマーは、化学増幅ポジ型レジストの成分として有用である。

Claim (excerpt)：

フォト活性成分及び樹脂を含み、該樹脂がアリールアルキル基を含むフォト酸レイビル単位を含む、フォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (12)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA01 , 2H025FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ポジ型シリコーン含有感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-143614 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-207452 Applicant：ジェイエスアール株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-240600 Applicant：富士写真フイルム株式会社

Show all

Return to Previous Page