磁気記録デバイスおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：合田潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995278684
Publication number (International publication number)：1996212540
Application date： Oct. 26, 1995
Publication date： Aug. 20, 1996
Summary：

【要約】【課題】磁気記録デバイスの表面を被覆する改良された耐摩耗性保護被膜を提供することにある。【解決手段】耐摩耗性保護被膜14は、フッ素化ダイヤモンド・ライク炭素により形成される。保護被膜は、フッ化炭化水素を用いたプラズマ励起CVD法または他の適切な方法で付着される。保護被膜は、低摩擦および低スティクション特性を与える。

Claim (excerpt)：

最上の保護層として、耐摩耗性および低スティクション特性を有するフッ素化ダイヤモンド・ライク炭素膜を有する磁気記録デバイス。

IPC (2)：

G11B 5/72 , G11B 5/85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平1-258219
特開昭64-079915
特開昭63-106919

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