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J-GLOBAL ID：200903047997703490

3位が置換されたスチルベン誘導体の化粧品組成物における脱臭活性剤としての用途

Inventor： クリストフ クールビエール ,  フランシス プリュシュ ,  シルヴァン クラヴチェンコ
Applicant, Patent owner： ロレアル
Agent (1)： 園田 吉隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000040328
Publication number (International publication number)：2000247853
Application date： Feb. 17, 2000
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】 好ましくは水溶性で、体臭の発生を効果的に防止する性質を有する物質を提供する。【解決手段】 化粧品組成物において、脱臭活性剤として、式(I):【化1】[上式中、Aは水素原子又はOR2基、R1及びR2は、水素原子;アルキル基;アシル基;基PO(OX1)(OX2)又は基SO2(OX3)(ここで、X1、X2、及びX3は水素原子又は一価アルカリ金属等)等、R4及びR5は、水素原子等を表す]の化合物を使用する。

Claim (excerpt)：

化粧品組成物における脱臭活性剤としての、以下の式(I):【化1】[上式中、Aは水素原子又はOR2基を示し、R1及びR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子;C1-C4アルキル基;アシル基R3CO(ここで、R3は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和、ヒドロキシル化又は非ヒドロキシル化、カルボキシル化又は非カルボキシル化C1-C30炭化水素系基を表す);基PO(OX1)(OX2)又は基SO2(OX3)(ここで、X1、X2、及びX3は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は一価アルカリ金属又はNH4+カチオンを表し、ここで、X1及び/又はX2は、また二価の金属カチオンを表すことができる);グリコシル基;ウロニル基を表し;R4及びR5は、同一であり、水素原子又はヒドロキシル基を表す]の少なくとも1つの化合物の使用。

IPC (4)：

A61K 7/32 ,  C07C 39/21 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/23

FI (4)：

A61K 7/32 ,  C07C 39/21 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/23 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• シワ予防用化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-325341   Applicant：花王株式会社
• 特開平3-200725
  
• 特表2000-527361