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J-GLOBAL ID：200903048018277253

高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法

Inventor： 赤崎 忠行 ,  河野 昭義 ,  高菅 和宏 ,  中村 修
Applicant, Patent owner： 日本シリカ工業株式会社
Agent (1)： 本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993284958
Publication number (International publication number)：1995138013
Application date： Nov. 15, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：

【要約】【目的】 低分子有機化合物の吸着剤、クロマト用分離剤、ビール用濾過剤等に有用な、高い比表面積とコントロールされた高構造性を有する新規なシリカゲルを提供する。【構成】 BET比表面積700〜ll00m2 /g、細孔容積0.5〜2.5cc/g、細孔容積の90%以上が細孔直径20〜50Åにあり、かつBET比表面積をA(m2 /g)としメジアン細孔直径をB(Å)としたときにこれらの関係が、A×B≧25000であるシリカゲル。

Claim (excerpt)：

BET比表面積700〜ll00m2 /g、細孔容積0.5〜2.5cc/g、細孔容積の90%以上が細孔直径20〜50Åにあり、かつBET比表面積をA(m2 /g)としメジアン細孔直径をB(Å)としたときにこれらの関係が下記の式A×B≧25000で表わされることを特徴とするシリカゲル。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特許第1077908号