光学顕微鏡を用いて緻密なライン幅構造を映像化する方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山崎行造 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993292647
Publication number (International publication number)：1995128595
Application date： Oct. 28, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】偏光光学顕微鏡を用いて緻密な細片の配列の下方及びそれらの間の半導体基板を映像化する。【構成】遅延装置は偏光装置7と試料21との間に置かれた1/4波長板17であり、偏光装置からの直線状に偏光された放射の偏光軸線の試料上への投射は、試料の直線状の形状に対して約45度の角度を形成する。1/4波長板の光学(遅速)軸線は試料の主たる直線状の形状に関して最適な角度(典型的な例としては約25度)の方向に向けられており、その方向において、1/4波長板は直線偏光照射を楕円偏光照射に変換し、この楕円偏光された照射は試料から反射されると偏光回転を受け、1/4波長板はその後試料から反射された楕円偏光照射を分析器27によって伝達されることができるような向きに偏光された放射に変換する。

Claim (excerpt)：

基板上の少なくとも1つの細片を含む試料を映像化する偏光光学顕微鏡であって、前記試料の近くに置かれた可変遅延器と、偏光照射を前記可変遅延器に向ける装置であって、前記可変遅延器が、照射ビームの一部を試料に伝え、さらに前記試料からの反射ビームを伝えるように配置されており、前記反射ビームが前記試料から反射された照射ビームからの照射光を含む指向装置と、前記反射ビームを受取り、該反射ビームの一部を伝えるように配置されている分析器とを備える偏光光学顕微鏡。

IPC (3)：

G02B 21/00 , G01B 11/24 , G02B 21/06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭54-067443
特開昭59-141226
特表平1-503493

Cited by examiner (3)

特開昭54-067443
特開昭59-141226
特表平1-503493

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