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J-GLOBAL ID：200903048033766309

ラップ加工用定盤

Inventor： 宿女 正敏
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992332816
Publication number (International publication number)：1994179165
Application date： Dec. 14, 1992
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：

【要約】【構成】 被加工物Aを研磨するラップ加工の定盤1を成す基体2の表面3に、軟質材からなり、かつ被加工物Aに当接して研磨する頭頂面4aを有する凸状体4を複数個配設する。【効果】 定盤の厚みを薄くし、かつ基体と軟質材の熱膨張の差による変形を少なくでき、温度管理を必要とせずに高い研磨加工精度が得られる。

Claim (excerpt)：

被加工物を研磨するラップ加工の定盤を成す基体の表面に、軟質材からなり、かつ被加工物に当接して研磨する頭頂面を有する凸状体を複数個配設したことを特徴とするラップ加工用定盤。