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J-GLOBAL ID：200903048071128685

保存安定性に優れた多孔質シリカ形成用の前駆体溶液、および多孔質シリカの製造方法

Inventor： 高 村 一 夫 ,  岡 部 晃 博 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  村 上 雅 美
Applicant, Patent owner： 三井化学株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001015049
Publication number (International publication number)：2002220224
Application date： Jan. 23, 2001
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】光機能材料、電子機能材料などに応用できる、均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリカを形成するための長期安定な前駆体溶液、ならびに該前駆体溶液を用いる多孔質シリカの製造方法を提供すること。【解決手段】アルコキシシラン類と触媒と界面活性剤とからなる溶液に含有される水を、アルコキシシラン類のアルコキシ基1モルに対して0.29モル以下にした前駆体溶液を調製し、また、この溶液を用いて、均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリカを製造する。【効果】 均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリカ膜を形成するための長期安定な前駆体溶液、ならびに該前駆体溶液を用いる多孔質シリカの製造方法を提供することが可能となった。

Claim (excerpt)：

アルコキシシラン類と触媒と界面活性剤とを含んでなる溶液であって、この溶液に含有される水を、アルコキシシラン類のアルコキシ基1モルに対して0.29モル以下にしたことを特徴とする規則的配列の均一な細孔を有する多孔質シリカ形成用の保存安定性に優れた前駆体溶液。

IPC (5)：

C01B 37/02 ,  C08G 77/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/5415 ,  C08L 71/02

FI (5)：

C01B 37/02 ,  C08G 77/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/5415 ,  C08L 71/02

F-Term (23)：

4G073BD01 ,  4G073BD11 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB42 ,  4G073FC01 ,  4G073FC18 ,  4G073FD13 ,  4G073FD21 ,  4G073UA02 ,  4G073UA06 ,  4G073UB11 ,  4G073UB12 ,  4J002CH021 ,  4J002DD017 ,  4J002DE028 ,  4J002DG047 ,  4J002EX036 ,  4J002HA05 ,  4J035BA12 ,  4J035BA16 ,  4J035CA061 ,  4J035LB20