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J-GLOBAL ID:200903048077364879
2つの自由度を備えたマイクロ工学的要素の製造
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小堀 益
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992169503
Publication number (International publication number):1993230680
Application date: Jun. 26, 1992
Publication date: Sep. 07, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】高精密のマイクロ工学的要素を作製する製造方法を提供する。【構成】棒材は、壁部の中にシリンダを成長させることによって基板40の表面において形成される。続いて、当該壁部は、シリンダを残して取り除かれる。シリンダは、犠牲層及び構造層によって被覆される。当該構造層は、ケーシングを形成するようにしてパターン形成され、当該犠牲層は、取り除かれる。
Claim (excerpt):
次のことを含む、或る部材の表面においてマイクロ工学的装置を作製するプロセス:或る部材を準備し;当該部材の材料とは異なっている材料から成る第1の層を前記部材の表面に形成し;前記第1層とは異なっている材料から成る壁部を前記第1層の表面に形成し;前記第1層の一部の表面においてかつ前記壁部の中において、前記壁部との凸凹関係を形成するようにして円筒形の緩衝材を形成し;前記壁部及び前記第1層の一部をエッチングして、前記部材と、前記円筒形緩衝材と、前記円筒形緩衝材と前記部材の間に挿入されて円筒形緩衝材が取付けられることになる前記第1層の一部とからそれらを取り除くようにし;前記円筒形緩衝材と前記部材の間に挿入された前記第1層の前記部分の表面、前記円筒形緩衝材の表面、及び前記部材の一部の表面において犠牲層を形成し;前記犠牲層及び前記部材の表面に構造層を形成し;前記構造層をパターン形成して、前記円筒形緩衝材がケーシング構造に対して運動できるようにして前記ケーシング構造を形成し、前記犠牲層の部分を露出させるようにし;そして前記犠牲層と、前記円筒形緩衝材と前記部材の間に挿入された前記第1層とをエッチングして、前記円筒形緩衝材を前記ケーシング構造から解放し、前記円筒形緩衝材を前記部材からも解放し、前記円筒形緩衝材と前記ケーシング構造の間における相対的な運動を準備する。
IPC (2):
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