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J-GLOBAL ID：200903048105360477

シャンプー組成物

Inventor：
松本 文雄

About 松本 文雄


Applicant, Patent owner：
株式会社コーセー

About 株式会社コーセー


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998022621
Publication number (International publication number)：1999209249
Application date： Jan. 20, 1998
Publication date： Aug. 03, 1999
Summary：
【要約】【課題】ふけ、かゆみを防ぐ効能を有し、洗浄中の泡立ち、泡の感触が良好で、充分な洗浄効果が得られ、かつ、すすぎ時に滑らかな感触を与える優れた品質を有するシャンプー組成物を提供する。【解決手段】(A)テトラデセンスルホン酸塩 1〜15重量%、(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩 1〜15重量%、(C)両性界面活性剤1〜10重量%、(D)カチオン性ポリマー 0.05〜5重量%、(E)サリチル酸及び/又はイソプロピルメチルフェノール 0.05〜1重量%を含有することを特徴とするシャンプー組成物。
Claim (excerpt)：
次の成分(A)〜(E);(A)テトラデセンスルホン酸塩 1〜15重量%(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩 1〜15重量%(C)両性界面活性剤 1〜10重量%(D)カチオン性ポリマー 0.05〜5重量%(E)サリチル酸及び/又はイソプロピルメチルフェノール 0.05〜1重量%を含有することを特徴とするシャンプー組成物。
IPC (13)：
A61K 7/075 ,  C11D 1/14 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/90 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/08 ,  C11D 1:14 ,  C11D 1:29 ,  C11D 1:90 ,  C11D 3:382 ,  C11D 3:20
FI (8)：
A61K 7/075 ,  C11D 1/14 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/90 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-107965   Applicant：ライオン株式会社
  • シャンプー組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-009295   Applicant：川研ファインケミカル株式会社, 不二製油株式会社
  • 特開平2-166196
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