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J-GLOBAL ID：200903048113576888

屈折率分布形成材料及びホログラフィ乾板

Inventor： 石塚 剛 ,  宮下 智子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998008771
Publication number (International publication number)：1999202740
Application date： Jan. 20, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 回折効率が高く、しかも透明性の高い屈折率分布形成材料及びホログラフィ乾板を提供する。また、耐熱性の高い屈折率分布材料及びホログラフィ乾板を提供する。【解決手段】 ポリスチレン換算重量平均分子量の極大値が1×105〜1×106の範囲内にある高分子量共重合体より成るビニル/アクリル系共重合体と、ポリスチレン換算重量平均分子量の極大値が8×103〜4×104の範囲内にある低分子量共重合体より成るビニル/アクリル系共重合体とを有するバインダポリマと、芳香族環若しくはハロゲンを有するビニル/アクリル系単量体、及び/又は多官能基を有するビニル/アクリル系単量体を有する光重合性モノマと、光照射により光重合性モノマを重合する光重合開始剤とを有している。

Claim (excerpt)：

ポリスチレン換算重量平均分子量の極大値が1×105〜1×106の範囲内にある高分子量共重合体より成るビニル/アクリル系共重合体と、ポリスチレン換算重量平均分子量の極大値が8×103〜4×104の範囲内にある低分子量共重合体より成るビニル/アクリル系共重合体とを有するバインダポリマと、芳香族環若しくはハロゲンを有するビニル/アクリル系単量体、及び/又は多官能基を有するビニル/アクリル系単量体を有する光重合性モノマと、光照射により前記光重合性モノマを重合する光重合開始剤とを有することを特徴とする屈折率分布形成材料。

IPC (4)：

G03H 1/02 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033

FI (4)：

G03H 1/02 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033