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J-GLOBAL ID：200903048114366275

背面処理用離型剤

Inventor： 土井 幸夫 ,  張 為衆 ,  衣笠 正善
Applicant, Patent owner： 昭和高分子株式会社
Agent (1)： 菊地 精一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992140117
Publication number (International publication number)：1993311131
Application date： May. 05, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 剥離抵抗値のコントロールの困難性の克服、未架橋シリコン樹脂成分の粘着剤層への移行による粘着力の低下のトラブルを解消した水系の背面処理用離型剤の開発。【構成】 一般式(I)で表される化合物(シリコンマクロモノマー)5〜60重量%、及びこれと共重合しうる不飽和化合物95〜40重量%を必須成分とする粒子径0.5μm以下のO/W型エマルジョンを重合せしめ、未反応分をシリコン全使用量の5重量%以下、MFTが15°C以上の共重合体エマルジョンとした背面処理用離型剤。【化1】

Claim (excerpt)：

一般式(I)で表される化合物(以下、シリコンマクロモノマーという。)【化1】5〜60重量%及びこれと共重合しうる不飽和化合物 95〜40重量%を必須成分とする粒子径0.5μm以下のO/W型エマルジョンをフリーラジカル重合せしめて得られる、シリコンマクロモノマーの未反応分は5重量%(対シリコン全使用量とする)以下であり、かつ最低皮膜形成温度(MFT)が15°C以上である共重合体エマルジョンを含むことを特徴とする背面処理用離型剤。

IPC (5)：

C09J 7/02 JKV ,  C07F 7/18 ,  C08F230/08 MNU ,  C08L 43/04 LKA ,  C08F299/08 MRY