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J-GLOBAL ID:200903048117357110

低密度成形体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 朝倉 正幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998033551
Publication number (International publication number):1999222794
Application date: Feb. 02, 1998
Publication date: Aug. 17, 1999
Summary:
【要約】【課題】 環境に優しく、しかも低密度性と緩衝性と生産性に優れた成形体を提供する。【解決手段】 多数の小孔を有する成形型の小孔から、スラリーの分散媒体である水を除去することによって該成形型にスラリーの小孔不通過成分を堆積させて成形物とし、その後湿潤状態の該成形物を型内或いは型外乾燥して得られる成形体において、前記小孔不通過成分としてセルロース系粗粉を含有し、スラリー形成に用いられる組成物のカナダ標準フリーネス(CSF)が550ml以上であり、かつ密度が0.02〜0.30g/cm3であることを特徴とする低密度成形体。
Claim (excerpt):
多数の小孔を有する成形型の小孔から、スラリーの分散媒体である水を除去することによって該成形型にスラリーの小孔不通過成分を堆積させて成形物とし、その後湿潤状態の該成形物を型内或いは型外乾燥して得られる成形体において、前記小孔不通過成分としてセルロース系粗粉を含有し、スラリー形成に用いられる組成物のカナダ標準フリーネス(CSF)が550ml以上であり、かつ密度が0.02〜0.30g/cm3であることを特徴とする低密度成形体。

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