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J-GLOBAL ID:200903048138210136

循環流動層炉

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 昌久 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000042597
Publication number (International publication number):2001235128
Application date: Feb. 21, 2000
Publication date: Aug. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高含水率かつ水分変動の大きい汚泥等を焼却処理する際に生じる未燃ガスの発生を抑制するとともに、フリーボード内での過剰な燃焼反応を低減して炉の安定運転を可能とする循環流動層炉を提供する。【構成】 流動媒体と被燃焼物を混合しながら燃焼を行なうライザと、該ライザから飛び出した流動媒体を捕集する固気分離器と、捕集した流動媒体に流動空気を導入して移動層を形成するシールポットと、該流動媒体を前記ライザに還流させる還流路とからなる循環流動層炉において、前記還流路上若しくはその上流側に被燃焼物投入口を具えた流動媒体の流動手段を設けるとともに、該流動手段から送給される被燃焼物及び流動媒体が前記ライザ炉床部上に投入されることを特徴とする。
Claim (excerpt):
流動媒体と被燃焼物を混合しながら燃焼を行なうライザと、該ライザから飛び出した流動媒体を捕集する固気分離器と、捕集した流動媒体に流動空気を導入して流動層若しくは移動層を形成するシールポットと、該流動媒体を前記ライザに還流させる還流路とからなる循環流動層炉において、前記還流路上若しくはその上流側に被燃焼物投入口を具えた流動媒体の流動手段を設けるとともに、該流動手段から送給される被燃焼物及び流動媒体が前記ライザ炉床部上の流動層内若しくはその上方に投入されることを特徴とする循環流動層炉。
IPC (2):
F23G 5/30 ZAB ,  F23C 10/02
FI (2):
F23G 5/30 ZAB D ,  F23C 11/02 311
F-Term (8):
3K064AA04 ,  3K064AA08 ,  3K064AB03 ,  3K064AC02 ,  3K064AD01 ,  3K064AD08 ,  3K064AE08 ,  3K064AE13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (5)
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