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J-GLOBAL ID：200903048142552467

水処理におけるオゾン注入制御方法

Inventor： 矢萩 捷夫 ,  渡辺 昭二 ,  原 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997303933
Publication number (International publication number)：1999138183
Application date： Nov. 06, 1997
Publication date： May. 25, 1999
Summary：

【要約】【課題】発生オゾン量の有効利用と排オゾンガス量の低減を図り、有機物含有汚水を処理する。【解決手段】本発明では砂ろ過槽とオゾン反応槽の組合せ処理とし、該砂ろ過槽を前段に、オゾン反応槽を後段に設置とする。このような構成において、前段で二次処理水中SS分を砂ろ過処理した後に、後段でオゾン処理することにより、注入オゾンを必要最小限にでき、かつ、オゾン反応槽から出る排オゾンガスも最小限に抑えることが可能となる。

Claim (excerpt)：

有機性物質及び浮遊性物質を含有する汚水を前段で砂ろ過層を通し、後段でオゾン反応槽で注入オゾンにより処理する方法において、前記砂ろ過層及びオゾン反応槽の処理水の各水質値並びに設定水質値を演算処理装置に送信し、該演算処理装置でオゾン処理水水質値と前記設定水質値とを比較演算して設定水質値に適したオゾン注入率を算出し、該オゾン注入率を前記砂ろ過処理水水質値によって補正することを特徴とする水処理におけるオゾン注入制御方法。