純水循環供給システム、純水再利用方法、および基板処理方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：渡邉勇 , 堀田信太郎 , 小杉良二 , 森友宏 , 廣澤哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006145273
Publication number (International publication number)：2007313421
Application date： May. 25, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：

【課題】清浄度が高い排水をより効率的に使用し、純水の回収率を向上することができる純水循環供給システムを提供する。【解決手段】純水循環供給システムは、純水を生成する1次純水生成部510と純水から超純水を生成する2次純水生成部520とを有する純水製造装置530と、純水製造装置530の2次純水生成部520で生成した超純水を需要機器540に供給する超純水経路550と、対象イオンの濃度が低められた処理水を生成する電気透析装置560と、電気透析装置560で対象イオンの濃度が低められた処理水を純水製造装置530の2次純水生成部520に供給する処理水経路570とを備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

純水を生成する1次純水生成部と純水から超純水を生成する2次純水生成部とを有する純水製造装置と、前記純水製造装置の2次純水生成部で生成した超純水を需要機器に供給する超純水経路と、陽極を有する陽極室と、陰極を有する陰極室と、前記需要機器から排出される排水から対象イオンを除去して該対象イオンの濃度が低められた処理水を生成する脱塩室と、前記脱塩室から移動した前記排水中の対象イオンを濃縮して該対象イオンの濃度が高められた濃縮水を生成する濃縮室と、前記陽極室に純水を供給する経路とを有する電気透析装置と、前記電気透析装置で前記対象イオンの濃度が低められた処理水を前記純水製造装置の2次純水生成部に供給する処理水経路と、を備えた純水循環供給システム。

IPC (5)：

C02F 1/469 , B01D 61/44 , B01D 61/48 , C02F 1/70 , C02F 1/32

FI (5)：

C02F1/46 103 , B01D61/44 520 , B01D61/48 , C02F1/70 Z , C02F1/32

F-Term (44)：

4D006GA17 , 4D006JA30Z , 4D006KA01 , 4D006KA51 , 4D006KB04 , 4D006KB30 , 4D006PA01 , 4D006PB08 , 4D006PB70 , 4D006PC04 , 4D037AA11 , 4D037AB11 , 4D037AB18 , 4D037BA18 , 4D037CA03 , 4D037CA04 , 4D050AA13 , 4D050AB32 , 4D050AB33 , 4D050BC05 , 4D050BC06 , 4D050BC09 , 4D050CA09 , 4D050CA10 , 4D061DA08 , 4D061DB18 , 4D061DC13 , 4D061DC15 , 4D061DC19 , 4D061DC20 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061EB13 , 4D061EB28 , 4D061EB30 , 4D061EB31 , 4D061EB35 , 4D061EB39 , 4D061FA07 , 4D061FA08 , 4D061FA17 , 4D061GC12 , 4D061GC14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

脱塩排水の処理方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-293601 Applicant：オルガノ株式会社
機能水の製造方法及びその製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-164011 Applicant：栗田工業株式会社

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