Pat

J-GLOBAL ID：200903048237302662

スピン洗浄乾燥方法及び装置

Inventor： 大石 正浩
Applicant, Patent owner： 島田理化工業株式会社
Agent (1)： 栂村 繁郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992119604
Publication number (International publication number)：1993291230
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板下面に残留する水滴をなくし、効率よく乾燥する。【構成】 筺体1内に設けた、基板8をスピンチャック9,9...で保持するステージ5を、回転させて基板8を回転させながら基板8の上下からリンス液を放射して洗浄を行い、その後、基板8を高速回転させながら基板8の上下からリンス液を置換させるための置換ガスを吹付けて乾燥させることを特徴とするスピン洗浄乾燥方法及び装置。

Claim (excerpt)：

筺体内に設けた、基板をスピンチャックで保持するステージを、回転させて基板を回転させながら基板の上下からリンス液を放射して洗浄を行い、その後、基板を高速回転させながら基板の上下からリンス液を置換させるための置換ガスを吹付けて乾燥させることを特徴とするスピン洗浄乾燥方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-185029
  
• 特開昭62-166517