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J-GLOBAL ID：200903048259219432

不斉銅錯体の製造法およびそれを用いる光学活性シクロプロパン化合物の製造法

Inventor： 鈴鴨 剛夫 ,  板垣 誠 ,  山本 三千男
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001016782
Publication number (International publication number)：2001278851
Application date： Jan. 25, 2001
Publication date： Oct. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 不斉銅錯体の製造法を提供すること。【解決手段】 一般式(1)で示される光学活性N-サリチリデンアミノアルコールと該アルコールに対して、一価または二価の銅化合物を等モル未満用い、不活性溶媒中で混合処理することを特徴とする不斉銅錯体の製造法。

Claim (excerpt)：

一般式(1)(式中、*は不斉炭素を表わし、R1は置換基を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリールまたはシクロアルキルを表わし、R2は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいフェニル基を表わす。R1およびR2における置換基はアルキル、アルコキシル、アラルコキシル、アリールオキシルまたはシクロアルコキシル基を表わす。また、X1およびX2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシル基またはシアノ基を表わす。また下記基で2-ヒドロキシ-1-ナフチル基または1-ヒドロキシ-2-ナフチル基を表わしてもよい。)で示される光学活性N-サリチリデンアミノアルコールと該アルコールに対して、一価または二価の銅化合物を等モル未満用い、不活性溶媒中で混合処理することを特徴とする不斉銅錯体の製造法。

IPC (8)：

C07C249/02 ,  B01J 31/22 ,  C07C 67/343 ,  C07C 69/74 ,  C07C251/24 ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 1/08 ,  C07M 7:00

FI (8)：

C07C249/02 ,  B01J 31/22 Z ,  C07C 67/343 ,  C07C 69/74 A ,  C07C251/24 ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 1/08 C ,  C07M 7:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭50-137955