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J-GLOBAL ID：200903048261076916
ポジ型フォトレジスト現像液
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小堀 貞文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991069294
Publication number (International publication number)：1994089031
Application date： Mar. 08, 1991
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：
【要約】【目的】 安定した現像速度で現像できしかも精度の高い超微細加工が可能なポジ型フォトレジスト現像液を提供する。【構成】 塩素イオンの含有量が50ppb以下である水酸化テトラアルキルアンモニウムの水溶液からなる。【効果】 高解像度で微細なパターンが得られると共に、スカムの発生が殆どなく優れたプロファイルを得ることができる。
Claim (excerpt)：
塩素イオン含有量が50ppb以下である水酸化アルキルアンモニウム水溶液からなるポジ型フォトレジスト現像液。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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