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J-GLOBAL ID：200903048269028120

MOCVDに適した新規有機チタン化合物

Inventor： 齋 篤 ,  橘 泰伺 ,  内田 寛人 ,  小木 勝実
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 広瀬 章一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998059581
Publication number (International publication number)：1999286494
Application date： Mar. 11, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 有機溶媒中における溶解度が高く、溶液状態で安定であって、低温で安定に気化し、気化状態で安定で、MOCVD法の原料として用いた場合に、固体原料供給法と液体原料供給法のいずれでも、低温から高温にかけての広い温度範囲で段差被覆性に優れた、組成制御の容易な誘電体薄膜を、非常に大きな成膜速度で形成することができる、有機チタン化合物を提供する。【解決手段】 ビス(ジピバロイルメタナト)-ジイソブトキシチタンまたはビス (ジピバロイルメタナト)-ジ-(2,2-ジメチル-1-プロポキシ) チタンを、そのまま、または有機溶媒 (例、テトラヒドロフラン) に溶解させて、MOCVD法の原料として使用すると、成膜時間および溶液濃度 (液体供給法) に比例した膜厚で、微細組織の誘電体薄膜が形成される。

Claim (excerpt)：

一般式: Ti(DPM)2(OR)2で示され、DPMはジピバロイルメタンを意味し、Rはイソブチル基またはネオペンチル基である、新規有機チタン化合物。

IPC (4)：

C07F 7/28 ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/12 303

FI (4)：

C07F 7/28 B ,  C23C 16/40 ,  H01B 3/00 F ,  H01B 3/12 303

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• チタン錯体及びその合成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-003333   Applicant：東京応化工業株式会社
• 金属錯体を原料とする試薬
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-501754   Applicant：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド