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J-GLOBAL ID：200903048269205723
基板光照射処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993265851
Publication number (International publication number)：1995099167
Application date： Sep. 28, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】 加熱プレートの均熱性を損なわずに基板が必要以上に高温で加熱されることを回避する。【構成】 処理室9内に、板状ヒータ10を備えるとともに上端面が基板Wの面積と同等またはそれ以上の加熱面Hを有する加熱プレート12と、基板Wの上方から加熱する紫外線ランプ16とを内設し、かつ、加熱プレート12の加熱面Hを囲む環状の冷却面Cを有する水冷ジャケット20を設ける。
Claim (excerpt)：
加熱手段を有し、上端面が基板を支持して加熱する加熱面をなす加熱プレートと、前記基板の上方に配置された光照射手段を備え、基板を前記加熱プレートで所要温度にした状態で、前記光照射手段からの光を基板に照射するようにした基板光照射処理装置において、前記加熱プレートの加熱面を囲む環状の冷却面を有する冷却手段を、前記加熱プレートとの間を離して設けたことを特徴とする基板光照射処理装置。
IPC (2)：
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