高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000389784
Publication number (International publication number)：2001206917
Application date： Mar. 19, 1996
Publication date： Jul. 31, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜300,000であることを特徴とする高分子化合物。【化1】[R<SP>1</SP>は水素原子又はメチル基、R<SP>2</SP>、R<SP>3</SP>は酸不安定基、R<SP>4</SP>は水素原子、R<SP>5</SP>は-COOX基(Xは水素原子又は酸不安定基)又は-C<SB>6</SB>H<SB>4</SB>-R<SP>6</SP>(R<SP>6</SP>は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基)であり、又はR<SP>4</SP>とR<SP>5</SP>は互いに結合して-CO-O-CO-となっていてもよい。nは2又は3であり、mは1、2又は3である。t、qは正数、r、sは0又は正数であり、0<(t+q)/(t+q+r+s)≦1を満足する。t+q+r+sは上記重量平均分子量とする数である。]【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂として使用した化学増幅ポジ型レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れている。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜300,000であることを特徴とする高分子化合物。【化1】[但し、式中R<SP>1</SP>はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基、R<SP>2</SP>、R<SP>3</SP>は酸不安定基である。R<SP>4</SP>は水素原子、R<SP>5</SP>は-COOX基(Xは水素原子又は酸不安定基)又は【化2】(R<SP>6</SP>は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基)であり、又はR<SP>4</SP>とR<SP>5</SP>は互いに結合して【化3】となっていてもよい。また、上記各単位はそれぞれ1種で構成されていても、2種以上で構成されていてもよい。nは2又は3であり、mは1、2又は3である。t、qは正数、r、sは0又は正数であり、0<(t+q)/(t+q+r+s)≦1を満足する。t+q+r+sは上記重量平均分子量とする数である。上記酸不安定基は、下記式(16)又は(17)で示される基、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラフラニル基、又はトリアルキルシリル基である。【化4】(但し、式中R<SP>15</SP>、R<SP>16</SP>はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、R<SP>17</SP>は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。また、R<SP>18</SP>は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、aは0又は1である。)]

IPC (6)：

C08F212/14 , C08K 5/00 , C08K 5/13 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601

FI (6)：

C08F212/14 , C08K 5/00 , C08K 5/13 , C08L 25/18 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601

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