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J-GLOBAL ID：200903048277146604

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992285187
Publication number (International publication number)：1994118650
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、耐熱性などのレジスト特性に優れ、しかもこれらの諸特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂(a)、酸不安定性基を有する化合物(b)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(c)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が特定のフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂(a)、酸不安定性基を有する化合物(b)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(c)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が一般式(I)〜(IV)で示されるフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R6〜R7:水素、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基一般式(II)【化2】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基一般式(III)【化3】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基一般式(IV)【化4】R1〜R3:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027