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J-GLOBAL ID：200903048328497121

反応性ホスフィンオキシド類、及びこれを配位子として有する半導体超微粒子

Inventor： 加和 学
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000293693
Publication number (International publication number)：2002105090
Application date： Sep. 27, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】 量子効果により制御された吸発光能や高い屈折率を有する新規な半導体超微粒子を提供する。【解決手段】 ラジカル反応性基を結合してなるホスフィンオキシド類、及びこれを配位子として有する半導体超微粒子。

Claim (excerpt)：

ラジカル反応性基を結合してなるホスフィンオキシド類。

F-Term (4)：

4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB78 ,  4H050AB91