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J-GLOBAL ID：200903048338402200

放電プラズマ処理方法及びその装置

Inventor： 湯浅 基和 ,  屋良 卓也
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996286601
Publication number (International publication number)：1998130847
Application date： Oct. 29, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】 大気圧条件下で安定した放電状態を実現させることができ、簡便な装置、かつ、少量の処理用ガスで可能な放電プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 一の電極にガス吹き出し口を備えた固体誘電体容器を配設し、当該ガス吹き出し口に対向させて他の電極を設け、当該ガス吹き出し口と他の電極の間に基材を配置し、当該ガス吹き出し口から処理用ガスを連続的に排出させると同時に、当該一の電極と当該他の電極間に、立ち上がり時間及び立ち下がり時間が40ns〜100μs、かつ、電界強度が1〜100kV/cmであるパルス電界を印加することによって放電プラズマを発生させる。

Claim (excerpt)：

一の電極にガス吹き出し口を備えた固体誘電体容器を配設し、当該ガス吹き出し口に対向させて他の電極を設け、当該ガス吹き出し口と他の電極の間に基材を配置し、当該ガス吹き出し口から処理用ガスを連続的に排出させると同時に、当該一の電極と当該他の電極間に電界を印加することによって放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理方法であって、電極間に印加する電界が、パルス化されたものであって、その立ち上がり時間及び立ち下がり時間が40ns〜100μs、かつ、電界強度が1〜100kV/cmであることを特徴とする放電プラズマ処理方法。