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J-GLOBAL ID：200903048345441695

細孔構造体及びその製造方法

Inventor： 今田 彩 ,  田 透
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001317681
Publication number (International publication number)：2003129288
Application date： Oct. 16, 2001
Publication date： May. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】 細孔が規則的に配列した細孔構造体を簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程を含む細孔構造体の製造方法において、前記被加工物1上にブロックコポリマー層2を形成する工程(1)、前記ブロックコポリマー層2を熱アニールし海島構造3,4を形成する工程(2)、前記海島構造3,4を有するブロックコポリマー層2の島構造4を除去する工程(3)、前記被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成して前記ブロックコポリマー層の構造を反映したナノ細孔構造を形成する工程(4)を有する細孔構造体の製造方法。

Claim (excerpt)：

被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程を含む細孔構造体の製造方法において、前記被加工物上にブロックコポリマー層を形成する工程(1)、前記ブロックコポリマー層を熱アニールし海島構造を形成する工程(2)、前記海島構造を有するブロックコポリマー層の島構造を除去する工程(3)、前記被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程(4)を有することを特徴とする細孔構造体の製造方法。

IPC (8)：

C25D 11/00 308 ,  B82B 3/00 ,  C23F 1/00 ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/02 ,  C23F 4/00 ,  C25D 11/18 308 ,  G11B 5/84

FI (8)：

C25D 11/00 308 ,  B82B 3/00 ,  C23F 1/00 A ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/02 ,  C23F 4/00 A ,  C25D 11/18 308 ,  G11B 5/84 Z

F-Term (13)：

4K057DA12 ,  4K057DB05 ,  4K057DB06 ,  4K057DB17 ,  4K057DN01 ,  4K057WA11 ,  4K057WA12 ,  4K057WB05 ,  4K057WB06 ,  4K057WB17 ,  4K057WC08 ,  4K057WN01 ,  5D112GA29