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J-GLOBAL ID：200903048358246913

X線露光方法と装置、並びにデバイス製造方法

Inventor： 渡辺 豊
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993159495
Publication number (International publication number)：1995142305
Application date： Jun. 29, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 X線露光において、蓄積電流値の変化に伴うSR光の形状不安定性に起因する露光むらを除去する。【構成】 シャッター制御ユニット10は、SR1の2つの蓄積電流値I1 ,I2 に対する予め計測された露光量強度分布と、DCCT2により露光時にモニターされる蓄積電流値に従い、露光領域内の各点において適正露光時間を算出し、該適正露光時間だけシャッター5が開放となり露光光がレジストを露光するように、シャッター5の露光領域内における速度を決定し、シャッター駆動ユニット6を制御する。

Claim (excerpt)：

シンクロトロン放射光発生源からのX線を照射して露光を行なうX線露光方法において、前記シンクロトロン放射光発生源の少なくとも2つの蓄積電流値に対する、露光領域内における露光量分布情報を求め、露光時にモニターされた蓄積電流値と前記露光量分布情報に基づいて、前記露光領域内の各位置へのX線照射量を制御することを特徴とするX線露光方法。

IPC (4)：

H01L 21/02 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02