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J-GLOBAL ID：200903048386390604

微細気孔膜およびその製造方法

Inventor： リ、サンヤン ,  キム、ミュンマン ,  ソン、ヒョンシク
Applicant, Patent owner： エルジー・ケミカル・リミテッド
Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000520892
Publication number (International publication number)：2001523548
Application date： Nov. 16, 1998
Publication date： Nov. 27, 2001
Summary：

【要約】(ポリマーの融点+10°C)〜(ポリマーの融点+100°C)の温度で押出して押出物を形成する段階、前記押出物を10〜150°C、5〜120m/分の速度で巻き取ってフィルムを製造する段階、前記フィルムを(ポリマーの融点-100°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で10秒〜1時間アニーリングする段階、10-2〜10-7トールの真空度とイオンビーム照射距離5〜100cmで前記アニーリングしたフィルムの一面または両面に10-2〜107KeVのイオン粒子エネルギーおよび102〜1020ions/cm2のイオン粒子照射量を有するイオン粒子を照射する段階、前記イオン粒子が照射されたフィルムを-20°C〜(ポリマーの融点-40°C)の温度で冷延伸する段階、前記の冷延伸したフィルムを(ポリマーの融点-40°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で高温延伸する段階、および前記の高温延伸したフィルムを(ポリマーの融点-80°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で熱固定する段階からなる微細気孔膜の製造方法を提供する。

Claim (excerpt)：

真空状態でポリマーフィルムにエネルギーを有するイオン粒子を照射する微細気孔膜の製造方法。

IPC (5)：

B01D 67/00 ,  B01D 69/00 ,  B01D 71/26 ,  C08J 7/00 302 ,  C08L 23:02

FI (5)：

B01D 67/00 ,  B01D 69/00 ,  B01D 71/26 ,  C08J 7/00 302 ,  C08L 23:02

F-Term (31)：

4D006GA41 ,  4D006GA47 ,  4D006KE01R ,  4D006KE06R ,  4D006KE16R ,  4D006KE28R ,  4D006KE30R ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA27 ,  4D006MC22X ,  4D006MC23X ,  4D006MC85 ,  4D006MC86 ,  4D006NA21 ,  4D006NA32 ,  4D006NA36 ,  4D006NA51 ,  4D006NA58 ,  4D006NA62 ,  4D006PC80 ,  4F073AA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BB01 ,  4F073CA51 ,  4F073CA72 ,  4F073GA01 ,  4F073GA05 ,  4F073HA03 ,  4F073HA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-020531
  
• 特開平4-141222