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J-GLOBAL ID：200903048408794356

高分子試料分析装置

Inventor：
渡辺 忠一

About 渡辺 忠一


Applicant, Patent owner：
フロンティア・ラボ株式会社

About フロンティア・ラボ株式会社


Agent (4)： 佐藤 辰彦 ,  鷺 健志 ,  本間 賢一 ,  加賀谷 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005196597
Publication number (International publication number)：2007017196
Application date： Jul. 05, 2005
Publication date： Jan. 25, 2007
Summary：
【課題】高分子材料の光劣化に関する化学的知見を極く短時間で得られる高分子試料分析装置を提供する。【解決手段】複数の気相成分を生成する気相成分生成手段2と、キャリヤガスを気相成分生成手段2に導入するキャリヤガス導入手段15と、該気相成分を個々の成分に分離する分離手段4と、分離された成分を検出する検出手段5とを備える。高分子試料に紫外線を照射する紫外線照射手段11と、雰囲気ガスを気相成分生成手段2に導入する雰囲気ガス導入手段16と、分離手段4に導入されるガスを、キャリヤガスと雰囲気ガスとに切替るガス切替手段17とを備える。雰囲気ガス導入手段16から導入されるガス雰囲気下、紫外線照射手段11により紫外線を照射して、該高分子試料を劣化分解させる。劣化分解後、ガス切替手段17により分離手段4に導入されるガスをキャリヤガスに切り替え、気相成分をキャリヤガスにより分離手段4に導入する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
複数の気相成分を生成する気相成分生成手段と、キャリヤガスを該気相成分生成手段に導入するキャリヤガス導入手段と、該気相成分を試料導入部を介して導入し、個々の成分に分離する分離手段と、該分離手段により分離された成分を検出する検出手段とを備える高分子試料分析装置において、 該気相成分生成手段内で該高分子試料に紫外線を照射する紫外線照射手段と、所定の雰囲気ガスを該気相成分生成手段に導入する雰囲気ガス導入手段と、該分離手段に導入されるガスを、該キャリヤガスと該雰囲気ガスとに切り替えるガス切替手段とを備え、 該雰囲気ガス導入手段から導入される所定のガス雰囲気下、該紫外線照射手段により紫外線を照射して該高分子試料を劣化分解させて複数の気相成分を生成すると共に、該高分子試料の劣化分解後に該ガス切替手段により該分離手段に導入されるガスを該雰囲気ガスから該キャリヤガスに切り替え、該気相成分を該キャリヤガスにより該分離手段に導入することを特徴とする高分子試料分析装置。
IPC (3)：
G01N 33/44 ,  G01N 1/00 ,  G01N 1/22
FI (5)：
G01N33/44 ,  G01N1/00 101S ,  G01N1/00 101T ,  G01N1/22 R ,  G01N1/22 X
F-Term (10)：
2G052AA18 ,  2G052AD32 ,  2G052CA35 ,  2G052CA38 ,  2G052EB02 ,  2G052EB11 ,  2G052EB13 ,  2G052ED00 ,  2G052ED01 ,  2G052GA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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