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J-GLOBAL ID:200903048411129690

無電解錫めつき方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 押田 良久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991334454
Publication number (International publication number):1993148658
Application date: Nov. 22, 1991
Publication date: Jun. 15, 1993
Summary:
【要約】【目的】 銅を被めっき物とする無電解錫めっき処理を行なうに際して、形成された錫めっきにおけるホイスカーの発生を完全に抑制し得るような無電解錫めっき方法を提供することを目的とする。【構成】 銅を被めっき物としてこれに無電解錫めっきを施すに際し、酸、過酸化物および有機高分子化合物の混合液で被めっき物表面を処理した後に無電解めっき処理を行なうことを特徴とする。
Claim (excerpt):
銅を被めっき物として、無電解錫めっきを施す工程において、酸、過酸化物および有機高分子化合物の混合液で被めっき物表面を処理した後に無電解めっき処理を行なうことを特徴とする無電解錫めっき方法。
IPC (4):
C23C 18/18 ,  C23C 18/31 ,  H01L 21/60 311 ,  H05K 3/24

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