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J-GLOBAL ID：200903048417860450

レーザー超音波検査装置及びレーザー超音波検査方法

Inventor： 永田 泰昭
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 半田 昌男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998073966
Publication number (International publication number)：1999271281
Application date： Mar. 23, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 超音波探触子を被検体に接触させる必要のないレーザー超音波法を用いて、その解像度を向上させ、かつ、高速な検査を可能にする。【解決手段】 レーザー光源10から発せられたレーザービームは、ビームセパレータ11で複数のレーザービームに分割され、マルチチャンネル音響光学素子12に入り、ここで、オン・オフが切り替えられる。オンとされたレーザー光が被検体3の表面に照射されると超音波が発生し、これが被検体内部の欠陥に当たると反射され、超音波エコーが表面へ戻る。レーザー光源20から発せられたレーザービームを被検体表面に照射すると、その反射光は超音波エコーによってドップラーシフトを受けるので、その観測タイミングのデータに基づいて開口合成法を適用し、欠陥の位置を特定する。

Claim (excerpt)：

被検体内部に超音波を発生させるための複数の第一のレーザービームを生成する超音波発生用レーザービーム生成手段と、前記複数の第一のレーザービームを前記被検体表面上の特定直線上の所定の点に照射するとともに、それぞれの照射タイミングを制御する第一の照射制御手段と、前記被検体内部の欠陥で反射された超音波エコーを観測するための、前記第一のレーザービームと同数の第二のレーザービームを生成する超音波観測用レーザービーム生成手段と、前記第二のレーザービームを前記被検体表面上の前記複数の第一のレーザービームの対応するビームが照射された点と同じ点へ照射するとともに、それぞれの照射タイミングを制御する第二の照射制御手段と、前記複数の第二のレーザービームの前記被検体の表面からの反射光を受光し、ドップラーシフトに基づく光周波数の変化から前記超音波エコーを観測する超音波エコー観測手段と、前記超音波エコー観測手段により得られた前記複数の第二のレーザービームによる超音波エコーの観測タイミングから、開口合成法により、前記被検体中の欠陥の位置を特定するための演算を行う演算手段と、を具備することを特徴とするレーザー超音波検査装置。

IPC (2)：

G01N 29/00 501 ,  G01N 29/04

FI (2)：

G01N 29/00 501 ,  G01N 29/04