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J-GLOBAL ID：200903048422238970
投影露光装置及び半導体デバイス製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991193525
Publication number (International publication number)：1993013304
Application date： Jul. 08, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 位相シフト法を利用した形成したアライメントマークをオフアクシス顕微鏡を用いて検出することにより、マスクとウエハとの位置合わせを高精度に行なった投影露光装置を得ること。【構成】 原板上のパターンを投影光学系を介して可動のステージ手段面上に載置した被露光基板上の感光層に投影露光する投影露光装置において、該原板上の所定位置に通過光束の位相を反転させる領域を一部に設けた特定マークを設け、該特定マークを該投影光学系を介して該被露光基板を載置する載置台上の所定位置に設けた感光層に潜像として又は該被露光基板上の一部に特定マーク像として形成し、該潜像又は特定マーク像の位置情報を利用して原板と被露光基板とのアライメントを行なったこと。
Claim (excerpt)：
原板上のパターンを投影光学系を介して可動のステージ手段面上に載置した被露光基板上の感光層に投影露光する投影露光装置において、該原板上の所定位置に通過光束の位相を反転させる領域を一部に設けた特定マークを設け、照明手段により照明された該特定マークを該投影光学系を介して該被露光基板を載置する載置台上の所定位置に設けた感光層に潜像として又は該被露光基板上の一部に特定マーク像として形成し、該潜像又は特定マーク像を検出手段で検出し、該検出手段からの検出結果に基づいて制御手段により該ステージ手段の移動を制御するようにしたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/22
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 M
