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J-GLOBAL ID：200903048462477935

振動を減少させた高磁場開放型磁気共鳴マグネット

Inventor：
ハーヴェイ・エリス・クライン

About ハーヴェイ・エリス・クライン


Applicant, Patent owner：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

About ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ


Agent (1)： 松本 研一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002369123
Publication number (International publication number)：2003220050
Application date： Dec. 20, 2002
Publication date： Aug. 05, 2003
Summary：
【要約】【課題】 開放型MRIシステムにおいて、望ましいシステムの開放性を維持しながら撮像に悪影響を及ぼす振動を減少させる。【解決手段】 マグネット・アセンブリ・システムは、長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にある第1のアセンブリ(14)と第2のアセンブリ(26)を備える。第1及び第2のアセンブリは撮像のための静磁場を発生させる。第1と第2のアセンブリの間には、第1と第2のアセンブリの間で開放撮像ボリュームを維持し、さらに構造的支持を提供するために複数の支持ポスト(42)を設けている。支持ポストの各々は、第1の支持要素(310)と、撮像ボリューム(66)から離れた表面上で第1の支持要素に取り付けた第2の支持要素(320)を備えている。
Claim (excerpt)：
開放型磁気共鳴イメージング(MRI)システムで使用するためのマグネット・アセンブリ・システムであって、長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にあるような、静磁場を生成させるための第1のアセンブリ(14)及び第2のアセンブリ(26)と、前記第1と第2のアセンブリの間に取り付られている、前記第1と第2のアセンブリの間に開放撮像ボリュームを維持すると共にさらに構造的支持を提供するための複数の支持ポスト(42)であって、該支持ポストの各々は第1の支持要素(310)と前記撮像ボリューム(66)から離れた表面上で該第1の支持要素に取り付けた第2の支持要素(320)とを備えているような複数の支持ポスト(42)と、を備えるマグネット・アセンブリ・システム。
IPC (3)：
A61B 5/055 ,  G01R 33/3815 ,  G01R 33/389
FI (3)：
A61B 5/05 331 ,  G01N 24/06 530 Y ,  G01N 24/06 510 C
F-Term (10)：
4C096AA20 ,  4C096AB01 ,  4C096AB11 ,  4C096AB32 ,  4C096AB44 ,  4C096AD08 ,  4C096CA02 ,  4C096CA09 ,  4C096CA36 ,  4C096CA58
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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