Pat
J-GLOBAL ID：200903048493737358
レーザ光発生装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995198441
Publication number (International publication number)：1997043650
Application date： Aug. 03, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：
【要約】【課題】 潮解により破壊され難い非線形光学結晶素子、及び安定した高反射率及び低反射率の反射面により、高調波のレーザ光を効率良く発生し、信頼性の高いレーザ光発生装置を提供する。【解決手段】 励起用光源により励起用の光ビームを発生させる。基本波発振手段2は、上記励起用光源からの光ビームにより励起されて基本波のレーザ光を発振する。波長変換手段5,10は、非線形光学結晶素子52,102により基本波発振手段2からの基本波のレーザの波長を変換し、共振器により非線形光学結晶素子52,102で発生した光を反射面で繰り返し反射させることにより、基本波発振手段2からの基本波のレーザ光を高調波のレーザ光に波長変換して出力する。非線形光学結晶素子52,102及び上記共振器の反射面は、プラズマ中でイオンプレーティングにより成膜された酸化薄膜M1〜M10からなる。
Claim (excerpt)：
励起用の光ビームを発生する励起用光源と、上記励起用光源からの光ビームにより励起されて基本波のレーザ光を発振する基本波発振手段と、上記基本波発振手段からの基本波のレーザ光を高調波のレーザ光に波長変換して出力する波長変換手段とを備え、上記波長変換手段は、上記基本波のレーザが入射される非線形光学結晶素子と、上記非線形光学結晶素子により発生した光を反射面で繰り返し反射させる共振器とからなり、上記非線形光学結晶素子及び上記共振器の反射面は、プラズマ中でイオンプレーティングにより成膜された酸化薄膜からなることを特徴とするレーザ光発生装置。
IPC (3)：
G02F 1/37
, H01S 3/082
, H01S 3/109
G02F 1/37
, H01S 3/082
, H01S 3/109
