ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001169802
Publication number (International publication number)：2002131917
Application date： Jun. 05, 2001
Publication date： May. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】半導体デバイスの製造において、デフォーカスラチチュードが広く、プロセス許容性及びラインエッジラフネスや解像力に優れ、あるいは露光マージンが改善され、現像欠陥の発生が軽減され、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の酸分解性樹脂と特定の光酸発生剤、さらに特定の溶剤または特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I)で示される繰り返し構造単位および下記一般式(II)で示される繰り返し構造単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】一般式(I)中、R11〜R14は、各々独立に水素原子又は置換基を有しても良いアルキル基を表す。aは0または1である。一般式(II)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。Aは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせを表す。Wは、下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つを表す。【化3】式中、R15は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R16〜R20は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R16〜R18のうち少なくとも1つ、もしくはR19、R20のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R21〜R25は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R21〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R23、R25のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R26〜R29は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R26〜R29のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08F232/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08F232/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

F-Term (38)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AK32R , 4J100AL08Q , 4J100AM33R , 4J100AM35R , 4J100AR09P , 4J100AR11P , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA11R , 4J100BA12P , 4J100BA16H , 4J100BA20Q , 4J100BA55R , 4J100BB18R , 4J100BC07R , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100HA08 , 4J100HA61 , 4J100HC69 , 4J100HE22 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-277966 Applicant：ジェイエスアール株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-104302 Applicant：住友化学工業株式会社
デバイスの製造方法及びレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-057221 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

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