光アシストパターン形成方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：尾身祐助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996121300
Publication number (International publication number)：1997306876
Application date： May. 16, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】光の回折限界以下の微細パターンを形成しうるようにする。【構成】光ファイバー10はコア11とクラッド12の二重構造になっており、コアの中心部は中空部13となっている。光フアイバー10はピエゾ素子15に印加する電圧の制御によりその3次元的位置が制御される。光ファイバー10の他端には、チャンバー20が接続されている。チャンバー20の外部にはレーザ制御装置26により制御されるレーザ光源25が配置されている。レーザ光源25からの光出力はレンズ24によって集光され光ファイバー10の一端に導入される。入射光14は光ファイバー10の先端部においてエバネッセント光波18が発生する。チャンバー20にはガス貯蔵ボンベ21からエッチングガスまたは堆積原料ガスが導入され、ガスは光ファイバー10の中空部を通って先端部まで輸送され、基板16で反応を起こす。

Claim (excerpt)：

基板上の所望の位置にエバネッセント光波を照射し同時にエバネッセント光波照射位置に集束エッチングガス流または集束堆積原料ガス流を照射して当該エバネッセント光波照射位置にてエッチングまたは膜堆積を起こらせることを特徴とする光アシストパターン形成方法。

IPC (4)：

H01L 21/302 , H01L 21/205 , H01L 21/268 , H01L 21/285 301

FI (4)：

H01L 21/302 Z , H01L 21/205 , H01L 21/268 A , H01L 21/285 301 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭60-260125
光リソグラフィ方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-249138 Applicant：株式会社日立製作所

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