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J-GLOBAL ID：200903048509051516
X線回折装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001400050
Publication number (International publication number)：2003194744
Application date： Dec. 28, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】 集中法と平行ビーム法を簡単に切り換え可能にし,かつ,平行ビーム法において放物面多層膜ミラーを使うことで高分解能で十分なX線強度を確保する。【解決手段】 集中法で測定するときは,X線焦点34から出射されたX線ビーム46は選択スリット装置18の開口52を通過して,発散スリット20で所定の発散角に制限されて,試料12に当たる。平行ビーム法に切り換えるには,選択スリット装置18を回転中心線54の回りに180°回転させるとともに,発散スリット20をX線の進行方向に対して垂直方向に移動させる。X線焦点34から出射されたX線ビーム48は放物面多層膜ミラー16で反射して平行ビーム60となり,選択スリット装置18の開口52を通過して試料12に当たる。このように,選択スリット装置18を回転させることで集中法と平行ビーム法を切り換えることができる。その際に,光軸のセッティングをやり直す必要はない。
Claim (excerpt)：
X線源から出射されたX線ビームを試料に照射して,試料で回折された回折X線をX線検出器で検出するX線回折装置において,次の構成を備えるX線回折装置。(a)前記X線ビームを所定の発散角で前記試料に入射させる第1の入射経路。(b)前記X線ビームを放物面多層膜ミラーで反射させて平行ビームにしてから前記試料に入射させる第2の入射経路。(c)前記第1の入射経路と前記第2の入射経路のうちの任意の一方を開放して他方を遮断できる選択スリット装置。(d)前記第1の入射経路を使う場合と,前記第2の入射経路を使う場合とで,X線の発生位置が変化しないように配置されたX線源。(e)前記第1の入射経路を使う場合と,前記第2の入射経路を使う場合とで,前記試料の中心位置が変化しないように配置された試料支持装置。
IPC (2)：
FI (3)：
G01N 23/223
, G21K 1/06 M
, G21K 1/06 S
2G001AA01
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001JA01
, 2G001JA04
, 2G001SA01
, 2G001SA04
, 2G001SA29
