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J-GLOBAL ID：200903048509284430

形状創成装置

Inventor： 瀧野 日出雄 ,  水上 浩 ,  小林 輝紀 ,  伊藤 博 ,  柴田 規夫
Applicant, Patent owner： 森 勇藏 ,  株式会社ニコン
Agent (1)： 三品 岩男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995265957
Publication number (International publication number)：1997115692
Application date： Oct. 13, 1995
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】プラズマを用いて生成したラジカルの反応を利用した形状創成装置であって、被加工物の表面の荒れを防ぎ、光学物品の加工に適した装置を提供する。【解決手段】電極2は、被加工物10と対向する部分に局部的なプラズマ201を生成する。また、電極2の内部から、電極2と被加工物10との間の空間に、反応ガスを噴出させる。電極2に取り付けられた円板701は、電極2周囲の被加工物10と接する空間を狭める。これにより、反応ガスを被加工物10に沿わせて流す流路202を形成される。流路202により、被加工物10に沿って流れる反応ガスの流速が速められ、反応ガスが被加工物10の表面を荒らすのを防止することができる。

Claim (excerpt)：

被加工物を搭載するための支持部と、前記被加工物と対向する部分に、局部的なプラズマを生成するための電極と、前記電極を前記被加工物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記電極と前記被加工物とが対向する空間に反応ガスを噴出するためのガス噴出手段と、前記ガス噴出手段から噴出された反応ガスを前記被加工物に沿わせて流すために、前記電極の周囲の前記被加工物と接する空間を狭める手段とを有することを特徴とする形状創成装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H05H 1/46 A ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 B