シリカ系膜の製造方法、シリカ系膜、絶縁膜および半導体装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000102715
Publication number (International publication number)：2001286821
Application date： Apr. 04, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】半導体素子などにおける層間絶縁として、適当な均一な厚さを有する塗膜が形成可能で保存安定性に優れ、しかも塗膜の比誘電率、機械的強度および耐吸湿性などに優れた膜を得る。【解決手段】シロキサン化合物を含む膜に電子線を照射することを特徴とするシリカ系膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

シロキサン化合物を含む膜に電子線を照射することを特徴とするシリカ系膜の製造方法。

IPC (9)：

B05D 7/24 302 , B05D 3/06 101 , H01L 21/312 , H01L 21/316 , C08G 77/50 , C08J 7/00 CFH , C08J 7/00 302 , C09D183/04 , C08L 83:04

FI (9)：

B05D 7/24 302 Y , B05D 3/06 101 Z , H01L 21/312 C , H01L 21/316 G , C08G 77/50 , C08J 7/00 CFH , C08J 7/00 302 , C09D183/04 , C08L 83:04

F-Term (60)：

4D075BB26Z , 4D075BB47Z , 4D075BB56Z , 4D075BB93Z , 4D075BB94Z , 4D075CA21 , 4D075DC22 , 4D075EB42 , 4D075EB43 , 4D075EB56 , 4F073AA07 , 4F073AA18 , 4F073AA32 , 4F073BA33 , 4F073BB01 , 4F073BB09 , 4F073CA42 , 4F073DA09 , 4F073FA08 , 4J035BA01 , 4J035BA02 , 4J035BA03 , 4J035BA04 , 4J035BA11 , 4J035BA12 , 4J035BA13 , 4J035BA14 , 4J035CA112 , 4J035CA162 , 4J035CA182 , 4J035EA01 , 4J035HA01 , 4J035HB01 , 4J035LA03 , 4J035LB01 , 4J035LB20 , 4J038DL031 , 4J038KA04 , 4J038KA06 , 4J038MA11 , 4J038NA17 , 4J038NA21 , 4J038PA17 , 4J038PB09 , 5F058AA03 , 5F058AA04 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AG10 , 5F058AH01 , 5F058AH02 , 5F058BA06 , 5F058BA07 , 5F058BA20 , 5F058BC05 , 5F058BF46 , 5F058BJ01 , 5F058BJ02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

マイクロエレクトロニクス構造体用電子ビーム加工膜
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-503125 Applicant：アライドシグナル・インコーポレーテッド
光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-023461 Applicant：大日本印刷株式会社
有機珪素化合物の硬化物からなる剥離性硬化皮膜の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-255322 Applicant：大日本印刷株式会社, 信越化学工業株式会社

Show all

Return to Previous Page