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J-GLOBAL ID：200903048547435271

測距装置

Inventor： 野中 修
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998292017
Publication number (International publication number)：2000121928
Application date： Oct. 14, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】アクティブ方式及びパッシブ方式を単に切り換えるだけでなく、過酷な環境中で、仮に一方の測距方式が精度劣化を起こしても、他方の測距方式にてその劣化を検証して補正をかけることで、正確な測距を実現する。【解決手段】被写体を三角測距の原理で測距する三角測量タイプの測距装置において、第1基線長を有する第1測距部101と、上記第1基線長よりも短い第2基線長を有する第2測距部102と、上記第1測距部101と上記第2測距部102の同一対象物に対する測距結果に基づいて、上記第2測距部102の測距結果を補正する比較補正演算部100とを具備する。

Claim (excerpt)：

被写体を三角測距の原理で測距する三角測量タイプの測距装置において、第1基線長を有する第1の測距手段と、上記第1基線長よりも短い第2基線長を有する第2の測距手段と、上記第1の測距手段と上記第2の測距手段の同一対象物に対する測距結果に基づいて、上記第2の測距手段の測距結果を補正する補正手段と、を具備することを特徴とする測距装置。

IPC (4)：

G02B 7/30 ,  G02B 7/28 ,  G02B 7/32 ,  G03B 13/36

FI (4)：

G02B 7/11 A ,  G02B 7/11 N ,  G02B 7/11 B ,  G03B 3/00 A

F-Term (18)：

2H011AA01 ,  2H011BA05 ,  2H011BA14 ,  2H011BB00 ,  2H011CA21 ,  2H011DA00 ,  2H051AA01 ,  2H051BB07 ,  2H051BB09 ,  2H051BB20 ,  2H051CB20 ,  2H051CC03 ,  2H051CC20 ,  2H051CD21 ,  2H051CD25 ,  2H051DA02 ,  2H051DA07 ,  2H051EB20