Pat
J-GLOBAL ID:200903048550072961

シャンプー組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998276543
Publication number (International publication number):2000086465
Application date: Sep. 11, 1998
Publication date: Mar. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】使用性、保存安定性が良く、洗浄中の泡立ちが良好で、すすぎ時に毛髪がきしまず、洗い上がりの毛髪に滑らかで柔らかな感触を与える優れた効果を有するシャンプー組成物を提供する。【解決手段】(A)テトラデセンスルホン酸塩2〜15重量%、(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩2〜15重量%、(C)第4級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤0.5〜5重量%、(D)カチオン化グアーガム0.1〜3重量%を含有するシャンプー組成物。
Claim (excerpt):
次の成分(A)〜(D)、(A)テトラデセンスルホン酸塩 2〜15重量%(B)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩 2〜15重量%(C)第4級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤 0.5〜5重量%(D)カチオン化グアーガム 0.1〜3重量%を含有することを特徴とするシャンプー組成物。
IPC (5):
A61K 7/075 ,  C11D 1/14 ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/382
FI (5):
A61K 7/075 ,  C11D 1/14 ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/382
F-Term (36):
4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC542 ,  4C083AC642 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AC781 ,  4C083AC782 ,  4C083AC791 ,  4C083AC792 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4H003AB15 ,  4H003AB27 ,  4H003AB31 ,  4H003AB46 ,  4H003AC13 ,  4H003AE05 ,  4H003BA12 ,  4H003BA15 ,  4H003DA02 ,  4H003EB08 ,  4H003EB09 ,  4H003EB46 ,  4H003ED02 ,  4H003FA16 ,  4H003FA18 ,  4H003FA21 ,  4H003FA23 ,  4H003FA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • ヘヤーシャンプー-コンディショナー組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-155568   Applicant:ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
  • 特開平4-018014
  • シャンプー用組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-026654   Applicant:東洋ビューティ株式会社
Show all

Return to Previous Page