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J-GLOBAL ID：200903048567136335

基板処理装置

Inventor： 宮 勝彦 ,  泉 昭
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996104729
Publication number (International publication number)：1997275088
Application date： Apr. 01, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 処理室内において基板上に処理液の液滴が落下するのを防止する。【解決手段】 チャンバ2に囲まれた処理室3内の処理位置14で基板Wに処理液を供給して枚葉処理で基板処理する基板処理装置1において、搬入経路13や処理位置14、搬出経路15の上方の、チャンバ2の蓋2aやチャンバ2の側面のうちの基板搬入口8および基板搬出口9の上方部分2c、2d、基板搬入口8および基板搬出口9を形成する開口の天井部分8a、9aなどの構造物をヒーター17で昇温するように構成した。

Claim (excerpt)：

処理室内の所定の処理位置で基板に処理液を供給して枚葉処理で基板処理する基板処理装置において、少なくとも前記処理位置の上方の構造物を昇温するように構成したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (2)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/306 J