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J-GLOBAL ID：200903048572041970
計測方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992203073
Publication number (International publication number)：1994029172
Application date： Jul. 07, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 移動鏡の曲がりを正確に計測する。【構成】 X方向の一列のショット領域17A,17B,17C,....に端部を重ねた状態でそれぞれテストレチクルの全面のパターンを露光する。ショット領域17Aとショット領域17Bとが重なった領域で、計測マーク像15CBと計測マーク像16AAとのX方向の位置ずれΔX1及び計測マーク像16CBと計測マーク像15AAとの位置ずれΔX2よりステッピングの回転誤差を求める。次に、計測マーク像14AAと計測マーク像14CBとのY方向の位置ずれΔY1にステッピングの回転誤差を補正して、ショット配列のずれを求める。
Claim (excerpt)：
移動鏡が固定され2次元平面内で感光基板を位置決めするステージと、前記移動鏡から反射される光ビームを用いて前記ステージの座標を計測する座標計測手段と、露光光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクの像を前記ステージ上の感光基板に投影する投影光学系とを有する露光装置の前記移動鏡の曲がりを計測する方法において、前記マスクとしてパターン領域の一端近傍に複数の第1の計測マークが形成され前記パターン領域の他端近傍に複数の第2の計測マークが形成された計測用マスクを用いて、且つ前記移動鏡に基づいて計測された座標に基づいて前記ステージをステッピングさせながら、前記計測用マスクのパターンを前記ステージ上の感光基板の複数のショット領域に前記第1の計測マークの像と前記第2の計測マークの像とがほぼ重なり合うように順次露光する第1の工程と、前記感光基板上に露光された前記第1の計測マークの像の位置と前記第2の計測マークの像の位置との差より前記感光基板上の前記複数のショット領域に転写される前記計測用マスクの像の回転量を計測する第2の工程と、前記感光基板上に露光された前記第1の計測マークの像の位置と前記第2の計測マークの像の位置との差及び前記第2の工程で求めた前記計測用マスクの像の回転量とより前記感光基板上の前記複数のショット領域の相対的な配列を算出する第3の工程とを有し、該算出された前記複数のショット領域の相対的な配列より前記移動鏡の曲がりを求める事を特徴とする計測方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 Z
, H01L 21/30 311 L
Cited by applicant (2)
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特開昭58-193545
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特開昭58-193545
Cited by examiner (2)
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特開昭58-193545
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特開昭58-193545
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