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J-GLOBAL ID：200903048579046170

エキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板

Inventor： 大塚 久利 ,  滝田 政俊 ,  藤ノ木 朗
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社 ,  信越石英株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993190143
Publication number (International publication number)：1995043891
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はエキシマレーザを光源とした、例えばエキシマレーザリソグラフィー装置に使用されるリソグラフィー用石英マスク基板の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板は、水素分子を1×1017〜1×1019molecules/cm3 の範囲で含有してなることを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

水素分子を1×1017〜1×1019molecules/cm3 の範囲で含有してなることを特徴とするエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板。

IPC (4)：

G03F 1/14 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/027