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J-GLOBAL ID:200903048629390217
細胞処理方法
Inventor:
,
,
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
清原 義博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004344603
Publication number (International publication number):2006149279
Application date: Nov. 29, 2004
Publication date: Jun. 15, 2006
Summary:
【課題】 細胞の配列形態の制御や、基板に着底した細胞のレーザートラッピングによる移動を可能とし、細胞の融合処理等における細胞操作方法として非常に有効性の高い細胞処理方法を提供すること。【解決手段】 複数の細胞を含む懸濁液が供給された対向する電極間に交流電圧を印加する工程と、該電極間において細胞をレーザートラッピングにより移動させる工程を含み、前記細胞をレーザートラッピングにより移動させる工程が、前記交流電圧の印加前もしくは印加中に行われ、該印加前のレーザートラッピングでは細胞を初期状態から所望配列に近づける操作を行う細胞処理方法とする。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
複数の細胞を含む懸濁液が供給された対向する電極間に交流電圧を印加する工程と、該電極間において細胞をレーザートラッピングにより移動させる工程を含み、前記細胞をレーザートラッピングにより移動させる工程が、前記交流電圧の印加前もしくは印加中に行われ、該印加前のレーザートラッピングでは細胞を初期状態から所望配列に近づける操作を行うことを特徴とする細胞処理方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (7):
4B033NG01
, 4B033NH01
, 4B033NJ04
, 4B033NJ10
, 4B033NK05
, 4B033NK07
, 4B033NK10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
細胞融合方法および細胞融合装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-183630
Applicant:株式会社トキメック
Cited by examiner (1)
-
細胞融合方法および細胞融合装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-183630
Applicant:株式会社トキメック
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