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J-GLOBAL ID：200903048683412234

ウェハーの洗浄装置

Inventor： 佐藤 斉
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996106382
Publication number (International publication number)：1997275090
Application date： Apr. 03, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ブラシや高圧純水を用いてウェハー上の異物を除去する際のブラシや高圧純水噴射用ノズルのスキャンニング動作エリアを適正に制御することにより、製品にダメージを与えずに効率の良い洗浄を行う様にしたウェハーの洗浄装置を提供すること。【解決手段】 円板状ウェハーをその中心点を回転中心として回転させつつ、ウェハー10上の異物を、ブラシ又は高圧純水を用いて除去するウェハーの洗浄装置において、上記ブラシ又は高圧純水のスキャンニング動作エリアを、ウェハーの直径全長に沿った領域とすることにより異物除去を行う様にした。

Claim (excerpt)：

円板状ウェハーをその中心点を回転中心として回転させつつ、ウェハー上の異物を、ブラシ又は高圧純水を用いて除去するウェハーの洗浄装置において、上記ブラシ又は高圧純水のスキャンニング動作エリアを、ウェハーの直径全長に沿った領域とすることにより異物除去を行う様にしたことを特徴とするウェハーの洗浄装置。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 1/00 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/66

FI (7)：

H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S ,  B08B 1/00 ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/66 J