光学的成分測定方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：円城寺貞夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001228507
Publication number (International publication number)：2003050200
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： Feb. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】確率統計的なシミュレーションにより測定対象成分の濃度による検出光のスペクトルへの影響を正確に計算することができ、正確な測定結果を得ることのできる光学的成分測定方法および装置を提供する。【解決手段】散乱体を含む被測定媒体内の測定対象成分の濃度を測定する方法であって、被測定媒体の光学特性値を求め、確率統計的なシミュレーションにより被測定媒体内の光の光路を求め、シミュレーションにより求めた光路群から光学特性値に対応した光の検出強度に関連するデータテーブルを作成し、データテーブルを回帰分析により平滑化した補正データテーブル422を作成し、補正データテーブルから光の各波長に対応する検出強度を求めて参照スペクトルとし、被測定媒体に実際に光を入射させて検出光の実測スペクトルを求め、参照スペクトルと実測スペクトルとを比較して被測定媒体内の測定対象成分の濃度を演算する。

Claim (excerpt)：

散乱体を含む被測定媒体に光を入射させ、前記被測定媒体を通過した検出光のスペクトルにより、前記被測定媒体内の測定対象成分の濃度を測定する方法であって、前記被測定媒体の光学特性値(μa,μs’)を求める手順と、確率統計的なシミュレーションにより、前記被測定媒体内の光の光路を求める手順と、前記シミュレーションにより求めた光路群から、前記光学特性値(μa,μs’)に対応した光の検出強度に関連するデータテーブルを作成する手順と、前記データテーブルを回帰分析により平滑化した補正データテーブルを作成する手順と、前記補正データテーブルから光の各波長に対応する検出強度を求め、検出光の計算上のスペクトルである参照スペクトルを求める手順と、前記被測定媒体に実際に光を入射させ、検出光の実測スペクトルを求める手順と、前記参照スペクトルと前記実測スペクトルとを比較して、前記被測定媒体内の測定対象成分の濃度を演算する手順とを有する光学的成分測定方法。

IPC (5)：

G01N 21/35 , A61B 5/145 , G01N 21/27 , G01N 33/483 , G01N 33/66

FI (5)：

G01N 21/35 Z , G01N 21/27 Z , G01N 33/483 C , G01N 33/66 A , A61B 5/14 310

F-Term (28)：

2G045DA31 , 2G045FA11 , 2G045JA01 , 2G059AA01 , 2G059BB12 , 2G059BB13 , 2G059CC16 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE12 , 2G059FF08 , 2G059GG00 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ17 , 2G059KK01 , 2G059MM01 , 2G059MM02 , 2G059MM10 , 2G059MM12 , 2G059PP04 , 4C038KK10 , 4C038KL05 , 4C038KL07 , 4C038KM01 , 4C038KX02 , 4C038KY03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

光透過型反射防止用光学機能フィルムの表面反射率測定方法とその装置、および、光透過型反射防止用光学機能フィルムの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-158069 Applicant：ソニー株式会社

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