Pat
J-GLOBAL ID：200903048707179633
基板端縁洗浄装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993019587
Publication number (International publication number)：1994208948
Application date： Jan. 11, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：
【要約】【目的】 洗浄部分と薄膜部分との境界部から溶け出した薄膜材を少量の溶剤でしかも短時間で効率良く除去する。【構成】 表面に薄膜が形成されるとともに基板保持手段で保持された角型基板1の端縁の表面側に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第1の表面側溶剤ノズル26bを設け、かつ、ガスを吐出して溶解物を角型基板1の端縁よりも外方に吹き飛ばす表面側ガスノズル27bを設け、更に、第1の表面側溶剤ノズル26bによる吐出位置よりも角型基板1の端縁側の位置に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第2の表面側溶剤ノズル28bを設け、境界部から溶け出した薄膜材等の残存物をも溶解除去する。
Claim (excerpt)：
表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第1の溶剤ノズルと、その第1の溶剤ノズルによる吐出位置よりも前記基板の端縁側の位置に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第2の溶剤ノズルと、前記第1および第2の溶剤ノズルから吐出された溶剤によって溶解された溶解物を基板の端縁よりも外方に除去する溶解物除去手段と、前記第1および第2の溶剤ノズル、ならびに、溶解物除去手段を前記基板の端縁に沿わせて相対的に移動する移動手段と、を備えた基板端縁洗浄装置。
IPC (5)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 501
, H01L 21/304 341
, G02F 1/13 101
, H01L 21/68
