高度に誘発性の複屈折を示す光アドレス指定可能基質および光アドレス指定可能側基ポリマー類

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小田島平吉 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997541496
Publication number (International publication number)：2000514468
Application date： May. 15, 1997
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】本質的にゆっくりと光アドレス指定し得るポリマーから得られる基質を大きな面積に渡って通常の刻み込みに適した光源で照射することで該基質の面内に光学的異方性、即ち優先的な方向を有する複屈折を生じさせることを通して、上記ポリマーから極めて迅速に光アドレス指定し得る記憶媒体を製造することができる。このようにして調製した基質を短期間強力に照射すると、パターンが極めて迅速かつ永久的に刻み込まれる。本発明は、また、高い光学的異方性を照射で生じさせることができる新規な側鎖ポリマーにも関する。この光学的異方性は非常に高い熱安定性を示す。

Claim (excerpt)：

光アドレス指定可能ポリマーから生じさせた0.001から0.95の光学的異方性Δnを示す平らな材料を該光学的異方性を部分的に選択的に変えることを通して光学的に利用できる情報を記憶させる目的で用いる使用。

IPC (5)：

C08F220/34 , C08F220/38 , C08F220/60 , C08J 5/18 , G11B 7/24 526

FI (5)：

C08F220/34 , C08F220/38 , C08F220/60 , C08J 5/18 , G11B 7/24 526 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

新規な側基ポリマー類および光学構成要素のためのそれらの使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-268005 Applicant：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
側鎖基重合体から製造した平板材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-077794 Applicant：アグフア-ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト
レーザマーキング用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-230507 Applicant：石原産業株式会社

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Cited by examiner (5)

新規な側基ポリマー類および光学構成要素のためのそれらの使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-268005 Applicant：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
側鎖基重合体から製造した平板材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-077794 Applicant：アグフア-ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト
レーザマーキング用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-230507 Applicant：石原産業株式会社

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