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J-GLOBAL ID：200903048768722917

ネガ型含フッ素レジスト組成物

Inventor： 児玉 俊一 ,  金子 勇 ,  川口 泰秀
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 野口 恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000281167
Publication number (International publication number)：2002090996
Application date： Sep. 18, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 酸性水酸基を含有するモノマー単位を構成単位とする含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)、アミノプラスト(Z)、および有機溶媒(D)を含むことを特徴とするネガ型含フッ素レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸性水酸基を含有するモノマー単位を構成単位とする含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)、アミノプラスト(Z)、および有機溶媒(D)を含むことを特徴とするネガ型含フッ素レジスト組成物。

IPC (8)：

G03F 7/038 601 ,  C08F214/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/038 601 ,  C08F214/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (62)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025BE00 ,  2H025CB07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002CC162 ,  4J002CC182 ,  4J002CC192 ,  4J002EA058 ,  4J002EC038 ,  4J002ED028 ,  4J002EE038 ,  4J002EH038 ,  4J002EH158 ,  4J002EQ006 ,  4J002ET017 ,  4J002EU186 ,  4J002EU187 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J002HA03 ,  4J100AA20R ,  4J100AB10P ,  4J100AC24Q ,  4J100AC26Q ,  4J100AC27Q ,  4J100AD07P ,  4J100AE09P ,  4J100AE09R ,  4J100AE39Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR21R ,  4J100BA03P ,  4J100BB11P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38